مؤخرًا، في منتدى SEMICON تايوان 2026 IC، قدمت شركة ASML العملاقة للطباعة الحجرية العالمية إفصاحات تفصيلية عن أحدث البيانات الأساسية والتقدم التكنولوجي لآلات الطباعة الحجرية عالية-NA EUV (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet) أثناء تقدمها نحو التصنيع عالي الحجم (HVM).
فيما يتعلق بحجم الإنتاج وتسليم المعدات، أعلنت ASML أن أربعة عملاء في جميع أنحاء العالم قد أكملوا عمليات التثبيت، بإجمالي 10 أنظمة High-NA EUV تعمل الآن بكامل طاقتها. هناك ثلاثة أنظمة إضافية حاليًا في مرحلة الشحن والتركيب. حتى الآن، كشفت هذه الآلات بشكل تراكمي عن أكثر من 1.35 مليون رقاقة، مما يشير إلى انتقال التكنولوجيا من التحقق التجريبي إلى التطبيق الصناعي -النطاق الكامل. والجدير بالذكر أن شركة Intel أخذت زمام المبادرة من خلال استخدام هذه التقنية في إنتاج - كميات كبيرة من معالجات Core Ultra Series 3 (التي تحمل الاسم الرمزي Panther Lake) على عقدة معالجة Intel 18A الخاصة بها، لتصبح أول شركة على مستوى العالم تحقق-شحنات كبيرة الحجم من الرقائق المنطقية باستخدام High-NA EUV.
فيما يتعلق بأداء المعدات واستقرارها، حقق نموذج الإنتاج -الجيل الأول-الضخم، EXE:5200B، إنتاجية قدرها 135 شريحة في الساعة (WPH) أثناء اختبار القبول، مما يلبي معايير HVM. وفي الوقت نفسه، ارتفع معدل توافر الأسطول العالمي إلى 84%. وتتوقع ASML أن يصل هذا المعدل إلى 90% بحلول نهاية عام 2026، مع هدف طويل-يبلغ 93%. من خلال الاستفادة من خبرة الصيانة من نظام NXE الحالي الخاص بها، ضمنت ASML أن أداء التراكب والتركيز للآلات يلبي متطلبات الإنتاج الشامل{12}} الصارمة.
فيما يتعلق بالمزايا التكنولوجية وخرائط الطريق المستقبلية، مقارنة بأنظمة 0.33 NA EUV السابقة، فإن 0.55 NA High-NA EUV يوفر دقة فائقة. فهو يتيح -نمطًا فرديًا ليحل محل الأنماط-المعقدة المتعددة، مما يقلل بشكل مباشر من معدلات العيوب وأوقات دورة الإنتاج والتكاليف الإجمالية للعقد المتقدمة. علاوة على ذلك، تفتح هذه التقنية مساحات تصميم جديدة لتخطيطات الرقائق ثنائية الأبعاد، مما قد يقلل من العدد الإجمالي لطبقات الترابط المعدنية. وبالنظر إلى المستقبل، أنشأت ASML خارطة طريق تكنولوجية مستقرة تمتد على مدى عقد من الزمن. ومن خلال زيادة طاقة مصدر الضوء بالأشعة فوق البنفسجية (من 600 واط إلى 1000 واط) وتحسين العمليات الميكانيكية الأخرى، تهدف الشركة إلى تعزيز إنتاجية المعدات إلى 180 واط في الساعة بحلول نهاية هذا العقد، مع الاستمرار في تقديم الدعم الأساسي لتصنيع أشباه الموصلات من عقدة 2 نانومتر إلى عصر أنجستروم.
